半導(dǎo)體芯片冷熱沖擊方法
將試件芯片通電置于置物架上;
根據(jù)要求設(shè)定試驗溫度;
首先對試件進行低溫試驗,再進行高溫試驗,循環(huán)次數(shù)依要求進行;
記錄半導(dǎo)體芯片工作狀態(tài)下,在設(shè)定溫度下的相關(guān)參數(shù), 對產(chǎn)品分析, 工藝改進以及批次的定向品質(zhì)追溯提供確實的數(shù)據(jù)依據(jù)。
冷熱沖擊方向選擇
試件從低溫或是高溫試驗開始,不同標(biāo)準(zhǔn)有不同的解析。若試驗從低溫段開始,試驗結(jié)束在高溫段;若試驗從高溫段開始,結(jié)束在低溫段。為防止試件在試驗結(jié)束后表面產(chǎn)品凝露,試驗結(jié)束在低溫段時需要增加烘干恢復(fù)的過程,這樣就增加了試驗周期,建議試驗從低溫段開始,結(jié)束在高溫段。